マイクロエレクトロニクス

半導体製造において、汚染物質の低減は極めて重要である。製造中に除去されなかった粒子、望ましくない金属、または溶存ガスは、将来的に欠陥、あるいは製品リコールにつながる可能性があります。ソルベンタムのろ過製品は、製造工程のあらゆるステップで実証済みの性能を発揮します。

集積回路はシリコンウェーハで構成され、今日の電子機器の大半の心臓部を形成しています。需要の増加に伴い、シリコンウェーハ製造における高性能ろ過と溶存ガス制御のニーズも高まっています。ソルベンタムのろ過ソリューションは、シリコンウェーハメーカーがプロセス効率の目標を達成するだけでなく、電子機器や半導体製造の顧客の厳しい品質要件を満たすのに役立ちます。

リチウムイオン電池の需要は高く、今後も増え続けると予想されている。リチウムイオン電池は、ほとんどすべてのバッテリー駆動技術に使用されており、その用途はますます広がっています。より軽く、より長持ちし、より信頼性の高いバッテリーの未来には、より優れた、より効率的な汚染管理が必要です。ソルベンタムのろ過製品は、リチウムイオン電池の製造工程を改善します。電極の形成に使用される溶剤、水、高粘度スラリーから粒子状汚染物質やゲルを除去するには、適切なフィルター選択が必要です。また、電解液の充填工程における粒子汚染の除去にもフィルターが必要です。

再生可能エネルギーへの需要の高まりと並行して、水などの資源を持続的に利用する必要性も高まっています。貴重な資源である水を責任を持って利用しつつ、有害な粒子を確実に除去するため、水を使用した高品質の太陽電池生産に歩調を合わせる必要があります。ソルベンタムフィルターは、PV表面の電気的特性を劣化させる化学浴中の不純物を除去します。ソルベンタムのろ過製品は、循環バス、シングルパスシステム、高速ジェットスプレーシステム、メカニカルスクラビングシステム、クイックダンプリンスシステムなど、化学薬品、ガス、水の用途における汚染制御の実現に役立ちます。 

プリント基板の製造は複雑な精密工程を伴い、あらゆる工程で汚染の影響を受けます。ろ過システムに不備があれば、製造工程や製品が汚染される可能性があります。そしてそれは、回路基板の短期的および長期的な性能に影響を与える可能性があります。ソルベンタムのろ過ソリューションは、お客様のプリント基板製造が増大する性能ニーズを確実に満たすのに役立ちます。 

端面の面取りは、ディスプレイ製造工程における重要なステップです。カット後のガラス端面を処理しないと、端面が鋭利なままとなり、ガラスがダメージを受けやすくなります。研磨剤で端面を滑らかにすると、プロセスから除去する必要のある粒子が発生します。ソルベンタムには、端面の面取り工程で発生する有害な粒子を除去するために必要なろ過および溶存ガス制御ソリューションがあります。 

もし不純物がハードディスクドライブのような高品質のマイクロエレクトロニクス製品の主な敵である場合、信頼性が高く、スケーラブルで高性能なフィルタリングが必要です。ソルベントムの専門家が、個人用コンピュータ、サーバーファーム、データセンター、またはクラウドストレージサービス向けのハードディスクドライブにおいて、高いプロセスの完全性を維持するためにどのようにソルベントムのソリューションを活用できるかをお見せします。

超純水はセラミックコンデンサ製造プロセスの始まりから終わりまで使用され、その間に追加のろ過が必要です。次に廃水管理が続きます。製造中に不要な粒子がコンデンサ自体の性能や、それが使用されるデバイスの性能に大きな影響を与えることがあります。セラミックスラリーから導電性印刷、最終使用のための切断に至るまで、ソルベンタムのろ過ソリューションの品質にご期待ください。