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スマートフォンなどの電子機器、インターネット通信、自動車などを代表とする社会インフラなど、半導体は私達の身の回りのあらゆるものに使われており、生活は半導体によって支えられています。​

半導体は近年世界的な需要の拡大が続き、市場は飛躍的に成長しています。​

それに伴いより高性能なものに進化を遂げています。​

高性能な半導体を製造するためにはより金属が低減された高純度な半導体用薬品が求められます。​

ソルベンタムは独自技術を駆使したフィルターで貢献します。​

Electronics worker in clean room holding silicon wafer

薬液中の金属イオンを50ppt以下レベル※1まで低減。​                            金属除去の最先端デプスフィルター

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズは、昨今の電子業界でのより厳しい金属低減要求に貢献するために開発をいたしました。​

 

3M特殊粉体成形テクノロジーを用いて強酸性陽イオン交換樹脂、またはキレート樹脂と、ポリエチレン支持体を強固なブロック状のろ材にしたデプスフィルターカートリッジです。薬液中の金属イオンを50ppt以下レベル※1まで低減し、リソグラフィプロセスで使用されるPGMEA溶剤や、BARCなどの高純度ポリマー溶液、ホルマリン、メタノール、フェノール樹脂などからワンパスでも効果的に金属イオンを低減します。​

 

また、少量での処理も可能なため、薬液の再生、回収用途にもご使用いただけます。​

 

※1. 社内評価による:金属除去性能項目参照

Sunrise Localized Image 1 for PF IF MIP Japan
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3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズの​ご紹介​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズによる効率的な金属イオン除去について、​弊社の用いるテクノロジーをご紹介します。​

お客様の工程の効率化へどのように貢献するかご覧ください。​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズは​ お客様の工程に様々なメリットをご提供します

高性能な金属イオン除去で、時間とコストの節約に貢献します。​

ウェーハ洗浄、フォトレジストプロセス、化学機械研磨など、半導体製造のあらゆる部分において、​

金属イオン除去への従来のアプローチには複数のステップが必要でした。​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズは、小規模な作業にも大規模な作業にも最適な​

シングルステップの代替手段を提供します。​

主なメリットは下記の通りです:​

・<50 ppt への金属イオン除去​

・短い処理時間​

・コンパクトな装置でスケールアップが容易​

・低ランニングコスト

Sunrise Localized Image 5 for PF IF MIP Japan

製品に使用されている技術について​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズは、当社独自の粉末成形技術により、強酸性陽イオン交換樹脂(3M™ MIPシリーズ SPC)またはキレート樹脂(3M™ MIPシリーズ APP)をポリエチレン支持フィルター材に接着した特徴的なデプスフィルターカートリッジです。

デプス構造による効果的なろ過​

デプスフィルター構造により、溶液とフィルターの接触時間が長く持つことができます。​

従来のイオン交換膜フィルターの数倍のイオン交換容量を持ち、安定した金属除去性能を発揮します。​

Sunrise Localized Image 2 for PF IF MIP Japan

樹脂による金属イオンの回収​

溶液が複雑なフィルター構造を通過する際、強酸性陽イオン交換樹脂またはキレート樹脂が金属イオンを引き寄せます。​

これにより、50ppt未満という非常に高いレベルの純度を達成することができます。​

Sunrise Localized Image 3 for PF IF MIP Japan

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズによる金属イオン低減のパフォーマンス​

薬液の純度を50ppt以下に​

こちらの社内評価では、PGMEAに各金属を約1 ppb添加し、3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズ SCPシリーズ・APPシリーズの2インチカートリッジに700 mL/分の流速で通液しました。​

両モデルとも、各金属の定量限界以下の鉄<24 ppt、亜鉛<13 pptまで除去されました。​

Sunrise Localized Image 4 for PF IF MIP Japan

サイズラインナップ​

スクリーニングから大量生産まで、お客様の金属イオン精製作業に適したサイズをご用意しています。​

カートリッジはすべて同じ直径で、相対ろ過容量は長さにほぼ比例します。​

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製品使用場面のご提案例​

Sunrise Localized Image 7 for PF IF MIP Japan

原料準備​

  • 購入材料を自社でさらに金属低減する必要がある​
  • 使用原料をELグレードにしてから使用したいが存在しない​
  • 調達材料の金属濃度のばらつきが自社の最終製品に影響していて困っている​
  • 少量使用の原料から金属低減したいが既存の設備は大きすぎる​
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ろ過

  • 新たにELグレードを設け販路の拡大をしたい​
  • 特定金属を目標レベルまで削減したい​
  • 調達材料の金属濃度のばらつきが自社の最終製品に影響していて困っている​
  • 少量での繰り返し処理設備の新設にあたりハンドリングがいい方法を探している​
  • 顧客から現行品の追加金属低減要求があったが、設備投資をなるべく抑えたい​
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充填​

  • 配管/タンクなどの製造ラインからの金属イオン溶出に対処したい​
  • 最終出荷前の品質担保をしたい​
  • 少量での繰り返し処理設備の新設にあたりハンドリングがいい方法を探している​
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出荷後

  • 顧客から現行品の追加金属低減要求があったが、設備投資をなるべく抑えたい​
Sunrise Localized Image 11 for PF IF MIP Japan

金属低減ソリューション​

ソリューションラインナップ
製品名3M™ 金属イオン​
除去フィルター​
MIPシリーズ​
3M™ Zeta Plus™​
吸着デプスフィルタ​
ーカートリッジ​
ECシリーズ​
3M™ Zeta Plus™ 活性炭吸着​
デプスフィルターカートリッジ​
Sシリーズ​
代表的な用途​フォトレジスト原料、溶剤、​
水溶系材料の金属イオン除去​
フォトレジスト原料、溶剤、​
水溶系材料の金属イオン除去​
フォトレジスト原料、​
溶剤などからの金属除去、​
脱色、有機物除去​

ターゲットの​
金属除去レベル​

* 原液の金属含有レベルやろ過条件に依ります。

ppb - ppt レベル*​ppm - ppb レベル*​ppm - ppb レベル*​
製品構成​ポリエチレン/IX樹脂​セルロース/ケイソウ土/(IX樹脂)​セルロース/活性炭​
形状ラインナップ​カートリッジ​ディスク​ディスク​
特長/強み​3M特殊粉体成形テクノロジーを用いて強酸性陽イオン交換樹脂、またはキレート樹脂と、ポリエチレン支持体を強固なブロック状のろ材にしたデプスフィルターカートリッジ。​
厚みのある構造のため一般的なメンブレンタイプの同様のフィルターとくらべ高い金属除去性能を有す​
ゼータ電位と多孔質体によりコロイドやゲル状物質を吸着除去。​
40Qグレードに関してはイオン交換能力も付加​
ゼータ電位と多孔質体による吸着ろ過に加え、活性炭による吸着除去機能を付与​
効果を得やすい金属​
  • ■SCPタイプ​
    (強酸性イオン交換樹脂)​
    Na,Ca,Kなどのアルカリ金属​
    またはアルカリ土類金属​
  • ■APPタイプ​
    (キレート樹脂)​
    Fe, Ce, Znなどの重金属​
微量金属Na,Fe,Cr Al,微量コロイド​触媒に使用されるPd,Ptや​
Ni,Cu,Znなどの重金属​
 SCPタイプの製品詳細はこちら
APPタイプの製品詳細はこちら
製品詳細はこちら製品詳細はこちら

リソース​

3M™ 金属イオン​除去フィルター​ MIPシリーズ カタログ​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズ について更に詳しくご覧いただけます​

3M™ 金属イオン​除去フィルター​ ソリューションカタログ​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズのソリューション について更に詳しくご覧いただけます​

製造関連向け​ フィルター製品​

3M™ 金属イオン除去フィルター MIPシリーズの他、製造関連向けのフィルター製品をご覧いただけます​